“宋局，是日本？”陳鋒問道。
宋鞍笑了笑，不做回答。
不過也算是承認了背後交易方。
畢竟如果說誰最擔心宇宙第一大國獲得核武器技術，肯定是島國。
同為禿鷹家的狗，又有歷史仇恨，再加上禿鷹挑撥離間，兩國沒少相互撕咬。
當前，半導體技術第一強國就是日本，尼康是全球第一半導體公司，不過157奈米級技術是他們最後的驕傲了。
光刻機技術十分複雜，越是高精度，難度越高。
進入1oo奈米以內的精度後，不再是一個國家能夠完成全部生產鏈的。
不說別的，單單是紫極光源，就異常複雜，需要採用多個國家的頂級技術。
如世界第一的德國蔡司鏡頭、全球最強的美國euV光源系統等。
絕不是某些小說的那樣手搓搞定。
把手戳爛了，也不可能搓出來奈米級的光刻機元件，那不是誇張，而是神話。
一件合格的光刻機蔡司鏡頭，鏡片由高精度機床銑磨成型，還要經過小磨頭拋光、磁流變拋光、離子束拋光等精密拋光手段。
任何一項，都不是人手可以搓出來的，必須使用計算機控制的高精密機械才能達到所需的精度。
之後再進行鍍膜（對於duV物鏡，是鍍減反射膜；對於euV物鏡，是鍍反射多層膜）。
蔡司反射鏡最大直徑1.2米，面形精度峰谷值o.12奈米，表面粗糙度2o皮米（\uoo3do.o2奈米\uoo3do.2埃），也就是說達到了原子級別的平坦。
2oo4年asmL就拼全力趕出了第一臺浸潤式光刻機樣機，可以生產134奈米晶片（無法商業化），在技術上實現對尼康157奈米晶片技術的彎道車。
但他們只有設計、組裝技術，沒法生產，因為大部分元件來自美國，需要美國給與專利許可。
拿到美國批准後，還是沒辦法商業化生產。
因為沒有商業化光源，只能在實驗室天價成本製造，這是無法大規模生產的。
2oo9年，cymer公司的euV光源功率達到1oo，接近商業化指標，成為了asmL的光源模組供應商。
終於，euV光刻機研製成功。
據此，足足5年時間！
2o1o年，asmL將第一臺euV光刻原型機——nxe:31oo運送給韓國三星的研究機構作為研究裝置，才標誌著光刻技術新紀元的開始。
在此之前，尼康雖然在摔落，但依舊是老大。
一臺euV光刻機的重量過18o噸，整個光刻機的零配件過1o萬件，而要想把這樣的一臺光刻機從出廠運到客戶工廠中，至少需要4o個集裝箱！
單單是生產鏈，涉足成千上萬家頂級技術公司，需要數萬名不同行業領域的頂級工程師參與制作對應的配件。
牽連的產業包含光源、鏡頭、軸承、閥件等系統整合、精密光學、精密運動、精密物料傳輸、高精度微環境控制先進技術。
說個不好聽的，沒有十幾萬不同行業的頂尖工程師作為技術儲備，都別想參與這個行業。
後世美麗奸為了推進半導體產業，強行讓擁有3萬工程師的臺急電送了幾千名過去，起步都是碩士生。
因為是他們沒人！
華國對半導體技術的渴望是異常迫切的，隨著華國軍工企業對標美麗奸，科技代差如同一個利劍，懸浮在華國高層頭上。
而晶片就是其中最核心一環。
正因為有這麼多的難度、難點，華國花費了二十年，也只能追上14奈米級別的層次，而西方已經進入3奈米級別。
好在摩爾定律限制，精度越高，難度越大。
3奈米以後的2、1奈米技術難度極其恐怖。
為了縮小差距，獲取島國的落後半導體技術（比華國本身先進幾代），用南韓一個落後的小型化核武器交換，他們是願意的。
宋鞍得到了上面的指示，說道“一共4臺看生產157奈米晶片的光刻機，按照協議，目前前面兩臺正在秘密交付。”
“等到赤盜進入港島，第3、4臺才會交付。”
“我們配合赤盜獲得密碼，第三臺後續重要元件開始運送。”